
गैल्वेनिक जमाव के लिए टाइटेनियम एनोड
औद्योगिक या नागरिक उपयोग के लिए धातुओं के गैल्वेनिक निक्षेपण के क्षेत्र में, घुलनशील एनोड के स्थान पर एनोड के रूप में सक्रिय टाइटेनियम के उपयोग की अनेक संभावनाएं हैं।
उत्पाद का परिचय
गैल्वेनिक निक्षेपण के लिए टाइटेनियम एनोड
औद्योगिक या नागरिक उपयोग के लिए धातुओं के गैल्वेनिक जमाव के क्षेत्र में, सक्रिय के उपयोग की कई संभावनाएं हैंटाइटेनियमघुलनशील एनोड के स्थान पर एनोड के रूप में।
अब कई वर्षों से इसका उपयोग वॉट या सल्फामेट स्नान और अम्लीय कॉपर प्लेटिंग स्नान में निकेल सांद्रता को स्थिर करने के लिए सहायक एनोड के रूप में किया जाता रहा है।
प्लेटिनाइज्ड टाइटेनियम के प्रतिस्थापन और समान प्रदर्शन के साथ, प्रत्यक्ष उपयोग, सोना चढ़ाना, प्लेटिनम चढ़ाना, रोडियम चढ़ाना और निकल/पैलेडियम चढ़ाना के स्नान में बहुत अधिक महंगा है।
इसके अलावा हाल के मिश्र धातु जमाव स्नान में, उदाहरण के लिए जिंक/निकल प्रकार में, सक्रिय टाइटेनियम का विशेष रूप से उपयोग किया जाता है।
सल्फेट आधारित त्रिसंयोजक क्रोमियम से बने आधुनिक सजावटी क्रोम प्लेटिंग बाथ में, इस एनोड का उपयोग अनिवार्य है, जिसमें एक कोटिंग विशेष रूप से हेक्सावेलेंट क्रोमियम के गठन को न्यूनतम करने के लिए डिज़ाइन की गई है, जो प्रदर्शन और जमा किए गए क्रोमियम की गुणवत्ता पर नकारात्मक प्रभाव डालती है।
हेक्सावेलेंट क्रोम के साथ हार्ड क्रोम प्लेटिंग में, सक्रिय टाइटेनियम का उपयोग उन मामलों में किया जाता है जब एक विशेष एनोड ज्यामिति की आवश्यकता होती है, जिसे लीड मिश्र धातु में पारंपरिक एनोड पुन: पेश नहीं कर सकते हैं। लेकिन आपको कैथोड पर बनने वाले अवांछित त्रिसंयोजक क्रोम को फिर से ऑक्सीकृत करने के लिए लीड एनोड के संयुक्त उपयोग को ध्यान में रखना होगा, वास्तव में यह प्रतिक्रिया सक्रिय टाइटेनियम द्वारा इसकी कम एनोड क्षमता के कारण उत्पन्न नहीं होती है।
हम प्रत्येक प्रक्रिया के लिए उपयुक्त सभी प्रकार के कोटिंग्स का निर्माण कर सकते हैं और यह क्लाइंट के ड्राइंग के अनुसार एनोड बनाता है या अपने स्वयं के समाधान प्रस्तावित करता है। यह क्लाइंट द्वारा सीधे उत्पादित एनोड को भी सक्रिय कर सकता है।

इलेक्ट्रो गैल्वनाइजिंग के लिए टाइटेनियम एनोड
यह प्रक्रिया लौह एवं इस्पात उद्योग में, हल्के अम्लीय जिंक सल्फेट विलयन से विद्युत अपघटनी रूप से जिंक-प्लेटेड लौह कुंडली के उत्पादन के लिए अपनाई जाती है।
600 से 1400 मिमी तक की चर चौड़ाई वाली यह कुंडली कैथोडिक ध्रुवीकरण के तहत इलेक्ट्रोलाइटिक कोशिकाओं की एक श्रृंखला से तेज़ी से गुज़रती है। एनोड घुलनशील जिंक, लेड या सक्रिय टाइटेनियम में हो सकते हैं। बाद वाले में दूसरों की तुलना में काफी फायदे हैं क्योंकि यह आकार में स्थिर है, हल्का है, स्नान के प्रति गैर प्रदूषणकारी है, इसे रखरखाव की आवश्यकता नहीं है और लेड की तुलना में यह ऑक्सीजन डिस्चार्ज के लिए कम ओवरवोल्टेज के कारण ऊर्जा की बचत करने की अनुमति देता है।
प्रक्रिया के लिए आवश्यक अत्यधिक निकटता (<1 सेमी) के कारण, कुंडली और एनोड के बीच लगातार संपर्क के कारण, शॉर्ट सर्किट उत्पन्न होता है, जिससे क्षति होती है, जिससे कोटिंग का प्रदर्शन और अवधि प्रभावित होती है।
हमने एक ऐसी कोटिंग विकसित की है जो विशेष रूप से इस प्रकार के तनाव के प्रति प्रतिरोधी है, तथा टाइटेनियम आधार पर सुरक्षात्मक क्रिया करती है, जो शॉर्ट सर्किट के कारण होने वाले स्थानीय ध्रुवीकरण के कारण निष्क्रियता और सुरक्षात्मक TiO2 परत को खो देती है तथा संक्षारित हो जाती है, जिसके परिणामस्वरूप कोटिंग परत अलग हो जाती है।
इरीडियम, टैंटालम और टिन ऑक्साइड के साथ इस कोटिंग का विशेष निर्माण विशेष रूप से सघन है और यह टाइटेनियम बेस को घोल से बहुत अच्छे से अलग करने की अनुमति देता है और इस प्रकार घोल के एसिड के हमले से एक अवरोध पैदा करता है।
इलेक्ट्रोटिनिंग के लिए टाइटेनियम एनोड

यह प्रक्रिया कई पहलुओं से इलेक्ट्रोटिनिंग के समान है, इस मामले में जो पदार्थ जमा होता है वह टिन है।
अधिकांश संयंत्रों में घुलनशील टिन एनोड का उपयोग किया जाता है, जबकि अघुलनशील सक्रिय टाइटेनियम एनोड को केवल एक या दो कोशिकाओं में डाला जाता है, जिसका उद्देश्य घोल में टिन की सांद्रता को पुनः संतुलित करना होता है, जिसमें एनोड की तुलना में कम कैथोड दक्षता को बढ़ाने की प्रवृत्ति होती है।
पिछले कुछ वर्षों में एक ऐसी प्रणाली विकसित की गई है जिसमें केवल अघुलनशील एनोड का उपयोग किया जाता है, जबकि सीसा को एक समर्पित विलयक में अलग से घोला जाता है।
मीथेनसल्फोनिक (MSA) और फिनोलसल्फोनिक एसिड (PSA) से बने घोल की आक्रामकता को देखते हुए, जो इरीडियम ऑक्साइड की खपत की गति को बढ़ाता है और इसके अलावा एनोड पर लेड ऑक्साइड को निष्क्रिय करने के कुछ "ओवरकोटिंग" बनाने की प्रवृत्ति को देखते हुए, एक विशेष कोटिंग के निर्माण को डिजाइन करने और बुनियादी खुरदरेपन के लिए एक विशेष उपचार की आवश्यकता थी, जो ओवरकोटिंग की पकड़ में बाधा डालता था।
हम एमएसए और पीएसए दोनों मामलों के लिए दोनों कोटिंग समाधान प्रदान कर सकते हैं।
इसके अलावा यह ग्राहक के ड्राइंग के अनुसार एनोड का निर्माण करता है या केवल घिसे हुए एनोड पर पुनः कोटिंग सेवा प्रदान करता है।
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